可见光衰减片的方法有很多种，包括电镀、化学镀，真空蒸发镀以及磁控 溅射镀膜法。

工业化生产中人们既关心产品的综合性能又要考虑制备成本，在 以上制备方法中化学镀膜工艺流程简单，成本低廉，且操作简便，因此受到人 们的重视，但该方法会产生废液，污染环境；磁控溅射镀膜工艺技术先进， 制备的薄膜具有质量保证，是目前广泛应用的一种制备手段，相比于其他方 法，磁控溅射镀膜具有成膜速率高，基片温度低，膜粘附性好等镀膜优点，而 且对环境无污染，适合低碳要求，是一种绿色制造技术，是最有发展前景的表 面涂覆技术之一 。

从市场需求的角度看，满足光衰减器小型集成化、系列 化的发展，但其使用设备仪器复杂，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相 对较高 。

基于产品性价比的考虑，有必要对化学镀和磁控溅射镀这两种典 型镀膜方法进行综合分析和对比，进而研究工艺参数对 Ni/Si O 2 光衰减片的表 面形貌、晶体结构、三维结构、粗糙度以及对光衰减率的影响，通过调节工艺 参数来获得具有不同光衰减率的光衰减片，从而满足人们对不同膜系功能的需 求。